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离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜 期刊论文
中国光学, 2016, 期号: 6, 页码: 649-655
作者:  才玺坤;  张立超;  时光;  贺健康;  武潇野;  梅林
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离子束溅射  应力  光学特性  膜厚均匀性  
光子计数成像探测器电荷感应层Ge薄膜特性研究 期刊论文
长春理工大学学报(自然科学版), 2016, 期号: 4, 页码: 38-41
作者:  郑鑫;  陈波;  王孝东;  张宏吉;  李云鹏;  于再超
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Ge薄膜  直流磁控溅射  Ar气通入量  沉积速率  电学性质  
2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性 期刊论文
光学精密工程, 2016, 期号: 7, 页码: 1557-1563
作者:  刘震;  高劲松;  刘海;  王笑夷;  王彤彤
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光学加工  磁控溅射  表面改性  Rb-sic  大口径  
离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性 期刊论文
中国光学, 2016, 期号: 3, 页码: 356-363
作者:  贺健康;  张立超;  才玺坤;  时光;  武潇野;  梅林
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离子束溅射  光学薄膜  沉积速率  二维拟合  膜厚均匀性  
大口径反射镜高反射膜研究进展 期刊论文
中国光学, 2016, 期号: 2, 页码: 203-212
作者:  孙梦至;  王彤彤;  王延超;  刘震;  刘海;  王笑夷;  杨海贵;  高劲松
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大口径  反射镜  高反射膜  环境适应性  
极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si多层膜设计与制备 期刊论文
中国激光, 2016, 期号: 4, 页码: 160-166
作者:  喻波;  李春;  金春水;  王春忠
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薄膜  极紫外光刻  宽带多层膜  Mo/si多层膜  
Miniaturized VCSEL pulsed laser source with high peak power at 980 nm 期刊论文
Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2016, 卷号: 35, 期号: 5
作者:  Gao, S. J.;  X. Zhang;  J. W. Zhang;  J. Zhang;  Y. Q. Ning;  J. Wu;  L. Qin;  C. Z. Tong and L. J. Wang
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Surface modification of 2 m RB-SiC substrate by magnetron sputtering 期刊论文
Guangxue Jingmi Gongcheng/Optics and Precision Engineering, 2016, 卷号: 24, 期号: 7
作者:  Liu, Z.;  J.-S. Gao;  H. Liu;  X.-Y. Wang and T.-T. Wang
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Sub-nanometer precision optical fabrication of CaF2materials 期刊论文
Guangxue Jingmi Gongcheng/Optics and Precision Engineering, 2016, 卷号: 24, 期号: 11
作者:  Zhang, C.-L.;  L. Xu;  J. Liu;  Z.-L. Ma;  F. Wang;  Y.-Q. Gu;  L. Dai and S.-J. Peng
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Design and fabrication of broadband Mo/Si multilayer films for extreme ultra violet lithography illumination system 期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2016, 卷号: 43, 期号: 4
作者:  Yu, B.;  C. Li;  C. Jin and C. Wang
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