Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜 | |
才玺坤 ; 张立超; 时光; 贺健康; 武潇野; 梅林
| |
| 2016-12-15 | |
| 发表期刊 | 中国光学
 |
| 期号 | 6页码:649-655 |
| 摘要 | 采用离子束溅射制备了Al F3、Gd F3单层膜及193 nm减反和高反膜系,分别使用分光光度计、原子力显微镜和应力仪研究了薄膜的光学特性、微观结构以及残余应力。在优选的沉积参数下制备出消光系数分别为1.1×10~(-4)和3.0×10~(-4)的低损耗AlF_3和GdF_3薄膜,对应的折射率分别为1.43和1.67,193 nm减反膜系的透过率为99.6%,剩余反射几乎为零,而高反膜系的反射率为99.2%,透过率为0.1%。应力测量结果表明,AlF_3薄膜表现为张应力而GdF_3薄膜具有压应力,与沉积条件相关的低生长应力是AlF_3和GdF_3薄膜残余应力较小的主要原因,采用这两种材料制备的减反及高反膜系应力均低于50 MPa。针对平面和曲率半径为240 mm的凸面元件,通过设计修正挡板,250 mm口径膜厚均匀性均优于97%。为亚纳米精度的平面元件镀制193 nm减反膜系,镀膜后RMS由0.177 nm变为0.219 nm。 |
| 关键词 | 离子束溅射 应力 光学特性 膜厚均匀性 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58043 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 才玺坤,张立超,时光,等. 离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜[J]. 中国光学,2016(6):649-655. |
| APA | 才玺坤,张立超,时光,贺健康,武潇野,&梅林.(2016).离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜.中国光学(6),649-655. |
| MLA | 才玺坤,et al."离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜".中国光学 .6(2016):649-655. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜.ca（317KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | |
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