Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性 | |
贺健康 ; 张立超; 才玺坤; 时光; 武潇野; 梅林
| |
| 2016-06-15 | |
| 发表期刊 | 中国光学
 |
| 期号 | 3页码:356-363 |
| 摘要 | 本文采用离子束溅射方法制备GdF_3薄膜,并研究其沉积速率分布特征。首先,采用膜厚仪测量得出GdF_3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分布图,通过拟合模型得到二维沉积速率分布公式。其次,分析了束流束压及靶材角度对沉积速率分布特征的影响。最后,以二维沉积速率分布公式为基础,通过计算机编程设计均匀性挡板,并进行膜厚均匀性实验验证。结果表明,沉积速率在水平方向上满足ECS函数分布,在竖直方向上满足标准Gauss分布,拟合公式残差为2.05×10~(-6)。改变离子源的束流和束压,沉积速率分布特征保持不变。而随着靶材角度的增大,Gauss分布的半峰宽值ω逐渐增大,峰值位置x_c逐渐增大,在θ=292°时,GdF_3薄膜的沉积速率最大。通过挡板修调实验,可将270 mm口径平面元件的膜厚均匀性调整为97.9%。 |
| 关键词 | 离子束溅射 光学薄膜 沉积速率 二维拟合 膜厚均匀性 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/57947 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 贺健康,张立超,才玺坤,等. 离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性[J]. 中国光学,2016(3):356-363. |
| APA | 贺健康,张立超,才玺坤,时光,武潇野,&梅林.(2016).离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性.中国光学(3),356-363. |
| MLA | 贺健康,et al."离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性".中国光学 .3(2016):356-363. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率（320KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | |
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