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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
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Piecewise Linear Weighted Iterative Algorithm for Beam Alignment in Scanning Beam Interference Lithography
期刊论文
Photonic Sensors, 2019, 卷号: 9, 期号: 4, 页码: 344-355
作者:
Y.Song
;
Bayanheshig
;
S.Li
;
S.Jiang
;
W.Wang
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提交时间:2020/08/24
Piecewise linear weighted iterative algorithm,beam alignment,scanning,beam interference lithography (SBIL),overshoot suppression,convergence,speed,femtosecond laser,fabrication,gratings,crystal,system,Instruments & Instrumentation,Optics
Analysis and correction of the distortion error in a DMD based scanning lithography system
期刊论文
Optics Communications, 2019, 卷号: 434, 页码: 1-6
作者:
Q.K.Li
;
Y.Xiao
;
H.Liu
;
H.L.Zhang
;
J.Xu
;
J.H.Li
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提交时间:2020/08/24
Microlithography,Lithography,Digital image processing,maskless lithography,fabrication,Optics
Modeling multilayer coating profiles with defects on EUV collector with grating
期刊论文
Optical Engineering, 2019, 卷号: 58, 期号: 10, 页码: 9
作者:
S.Z.Sun
;
C.S.Jin
;
B.Yu
;
T.Guo
;
S.Yao
;
W.Y.Deng
;
C.Li
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提交时间:2020/08/24
EUV collector with grating,multilayer coating profile,coating defects,deposition model,EUV reflectance,lithography,Optics
Quality evaluation of solar magnetic field images at EUV wavelengths in digital image correlation method
期刊论文
Journal of Computational Methods in Sciences and Engineering, 2019, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 1109-1123
作者:
Y.Liu
;
K.-F.Song
;
J.-L.Ma
;
X.-D.Wang
;
Z.-W.Han
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提交时间:2020/08/24
Image quality,Displacement measurement,Extreme ultraviolet lithography,Image analysis,Magnetic fields,Quality control,Strain measurement
A beam homogenizer for digital micromirror device lithography system based on random freeform microlenses
期刊论文
Optics Communications, 2019, 卷号: 443, 页码: 211-215
作者:
Z.Y.Liu
;
H.Liu
;
Z.F.Lu
;
Q.K.Li
;
J.H.Li
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提交时间:2020/08/24
Homogenizer,Microlens array,Freeform surface,DMD lithography system,laser,optics
Formation of controllable 1D and 2D periodic surface structures on cobalt by femtosecond double pulse laser irradiation
期刊论文
Applied Physics Letters, 2019, 卷号: 115, 期号: 3, 页码: 5
作者:
S.A.Jalil
;
J.J.Yang
;
M.ElKabbash
;
C.Cong
;
C.L.Guo
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提交时间:2020/08/24
large-area,semiconductors,lithography,dynamics,ablation,Physics
Maskless formation of uniform subwavelength periodic surface structures by double temporally-delayed femtosecond laser beams
期刊论文
Applied Surface Science, 2019, 卷号: 471, 页码: 516-520
作者:
S.A.Jalil
;
J.J.Yang
;
M.ElKabbash
;
S.C.Singh
;
C.L.Guo
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提交时间:2020/08/24
Laser-matter interaction,Nanostructures,FLIPSSs,Ultrafast phenomenon,Surface plasmon,Nanofabrication,lithography
Micro-textures inversely designed with overlayed-lithography manufacturability for wetting behavior in CassieBaxter status
期刊论文
Applied Mathematical Modelling, 2019, 卷号: 74, 页码: 621-640
作者:
Y.Deng
;
Z.Liu
;
Y.Wang
;
H.Duan
;
J.G.Korvink
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提交时间:2020/08/24
Lithography,Aspect ratio,Design,Extrusion,Liquids
Structurally tunable plasmonic absorption bands in a self-assembled nano-hole array
期刊论文
NANOSCALE, 2018, 卷号: 10, 期号: 40, 页码: 19117-19124
作者:
Li, Qiang
;
Li, Zizheng
;
Wang, Xiaoyi
;
Wang, Tongtong
;
Liu, Hai
;
Yang, Haigui
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Gong, Yan
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Gao, Jinsong
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提交时间:2019/08/26
extraordinary optical-transmission
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Chemistry
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Materials Science
Physics
Refined grating fabrication using Displacement Talbot Lithography
期刊论文
Microelectronic Engineering, 2018, 卷号: 189, 页码: 74-77
作者:
Chen, H.
;
Qin, L.
;
Chen, Y. Y.
;
Jia, P.
;
Gao, F.
;
Chen, C.
;
Liang, L.
;
Zhang, X.
;
Lou, H. W.
;
Ning, Y. Q.
;
Wang, L. J.
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提交时间:2019/09/17
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