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Reduction of the effects of angle errors for a channeled spectropolarimeter 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 33
作者:  Ju, X. P.;  B. Yang;  J. Q. Zhang and C. X. Yan
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Weighted iterative algorithm for beam alignment in scanning beam interference lithography 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 31
作者:  Song, Y.;  W. Wang;  S. Jiang;  Bayanheshig and N. Zhang
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Sharp bend in two-dimensional optical waveguide based on gradient refractive index structure 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 19
作者:  Cao, Y. H.;  R. Mittra;  Z. Y. Liu and J. Zheng
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Methods of polarimetric calibration and reconstruction for a fieldable channeled dispersive imaging spectropolarimeter 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 30
作者:  Yang, B.;  J. Q. Zhang;  C. X. Yan and X. P. Ju
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Correcting groove error in gratings ruled on a 500-mm ruling engine using interferometric control 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 21
作者:  Mi, X. T.;  H. L. Yu;  H. Z. Yu;  S. W. Zhang;  X. T. Li;  X. F. Yao;  X. D. Qi;  Bayinhedhig and Q. H. Wan
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Extended shift-rotation method for absolute interferometric testing of a spherical surface with pixel-level spatial resolution 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 16
作者:  Liu, Y.;  L. Miao;  W. L. Zhang;  C. S. Jin and H. T. Zhang
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Beam drift error and control technology for scanning beam interference lithography 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 14
作者:  Wang, W.;  Y. Song;  S. Jiang;  M. Z. Pan and Bayanheshing
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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Moire alignment algorithm for an aberration-corrected holographic grating exposure system and error analysis 期刊论文
Applied Optics, 2016, 卷号: 55, 期号: 31
作者:  Zhao, X. L.;  Bayanheshig;  W. H. Li;  Y. X. Jiang;  Y. Song;  X. T. Li;  S. Jiang and N. Wu
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Computational method for simulation of thermal load distribution in a lithographic lens 期刊论文
Applied Optics, 2016, 卷号: 55, 期号: 15
作者:  Yu, X. F.;  M. Y. Ni;  D. W. Rui;  Y. Qu and W. Zhang
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