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光子计数成像探测器电荷感应层Ge薄膜特性研究 期刊论文
长春理工大学学报(自然科学版), 2016, 期号: 4, 页码: 38-41
作者:  郑鑫;  陈波;  王孝东;  张宏吉;  李云鹏;  于再超
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Ge薄膜  直流磁控溅射  Ar气通入量  沉积速率  电学性质  
离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性 期刊论文
中国光学, 2016, 期号: 3, 页码: 356-363
作者:  贺健康;  张立超;  才玺坤;  时光;  武潇野;  梅林
caj(320Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：271/79  |  提交时间：2017/09/17
离子束溅射  光学薄膜  沉积速率  二维拟合  膜厚均匀性  
PEALD沉积温度对AlN的结构和表面特性的影响（英文） 期刊论文
红外与激光工程, 2016, 期号: 4, 页码: 219-222
作者:  陈芳;  方铉;  王双鹏;  牛守柱;  方芳;  房丹;  唐吉龙;  王晓华;  刘国军;  魏志鹏
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氮化铝  等离子增强原子层沉积  生长速率  结晶化  表面粗糙度  沉积温度  
Design and fabrication of broadband Mo/Si multilayer films for extreme ultra violet lithography illumination system 期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2016, 卷号: 43, 期号: 4
作者:  Yu, B.;  C. Li;  C. Jin and C. Wang
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Effect of deposition temperature on the structural and surface properties of AlN by plasma enhanced atomic layer deposition 期刊论文
Hongwai yu Jiguang Gongcheng/Infrared and Laser Engineering, 2016, 卷号: 45, 期号: 4
作者:  Chen, F.;  X. Fang;  S. Wang;  S. Niu;  F. Fang;  D. Fang;  J. Tang;  X. Wang;  G. Liu and Z. Wei
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