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离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜 期刊论文
中国光学, 2016, 期号: 6, 页码: 649-655
作者:  才玺坤;  张立超;  时光;  贺健康;  武潇野;  梅林
caj(317Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：353/139  |  提交时间：2017/09/17
离子束溅射  应力  光学特性  膜厚均匀性  
基底温度对中阶梯光栅厚铝膜质量的影响 期刊论文
中国光学, 2016, 期号: 6, 页码: 656-662
作者:  孙梦至;  高劲松;  李资政;  杨海贵;  王笑夷
caj(258Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：332/112  |  提交时间：2017/09/17
中阶梯光栅  厚铝膜  基底温度  
原子力显微镜探针批量制备工艺分析 期刊论文
微纳电子技术, 2016, 期号: 2, 页码: 119-123
作者:  李加东;  苗斌;  张轲;  吴东岷
caj(1612Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：344/124  |  提交时间：2017/09/17
原子力显微镜(Afm)  探针  绝缘衬底上的硅(Soi)  自锐式  曲率半径  
溶剂去除速度对于溶剂退火薄膜相形貌的影响 期刊论文
高分子学报, 2016, 期号: 1, 页码: 78-84
作者:  常同鑫;  赵海峰;  黄海瑛;  何天白
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嵌段共聚物  溶剂退火  溶剂去除速度  相形貌  环状形貌  
Preparation and properties of new type of transparent conductive and electrochromic Bi-functional indium-free MoO3/Ag/MoO3thin films 期刊论文
Faguang Xuebao/Chinese Journal of Luminescence, 2016, 卷号: 37, 期号: 2
作者:  Liu, Y.;  Y. Lyu;  L.-G. He and X.-Y. Liu
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Surface modification of 2 m RB-SiC substrate by magnetron sputtering 期刊论文
Guangxue Jingmi Gongcheng/Optics and Precision Engineering, 2016, 卷号: 24, 期号: 7
作者:  Liu, Z.;  J.-S. Gao;  H. Liu;  X.-Y. Wang and T.-T. Wang
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Development of arc-edge tool lapping machine for grating ruling based on leverage load mode 期刊论文
Jixie Gongcheng Xuebao/Journal of Mechanical Engineering, 2016, 卷号: 52, 期号: 9
作者:  Jirigalantu;  X. Li;  K. Liu;  S. Zhang;  Bayanheshig;  X. Qi and Y. Tang
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