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月基极紫外相机Mo/Si多层膜反射镜的空间质子辐照稳定性 期刊论文
激光杂志, 2021, 卷号: 42, 期号: 11, 页码: 24-29
作者:  李云鹏;  陈波;  吕鹏;  杨洪臣;  王华朋
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Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究 期刊论文
光学学报, 2020, 卷号: 40, 期号: 11, 页码: 46-53
作者:  孙诗壮;  金春水;  喻波;  郭涛;  姚舜;  李春;  邓文渊
浏览  |  Adobe PDF(3802Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：276/104  |  提交时间：2021/07/06
原子与分子物理学  分子动力学  反射  再溅射  Mo/Si原子  角度分布  能量分布  
Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究 期刊论文
光学学报, 2020, 卷号: 40, 期号: 10, 页码: 196-202
作者:  孙诗壮;  金春水;  喻波;  郭涛;  姚舜;  李春;  邓文渊
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薄膜  Mo/Si多层膜  极紫外光刻  磁控溅射  表面粗糙度  功率谱密度  
Research on Surface Roughness Related Coating Processes of Mo/Si Multilayers 期刊论文
Guangxue Xuebao/Acta Optica Sinica, 2020, 卷号: 40, 期号: 10, 页码: 7
作者:  S. Sun,C. Jin,B. Yu,T. Guo,S. Yao,C. Li and W. Deng
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Reflection and Resputtering of Mo/Si Atoms During High-Energy Deposition 期刊论文
Guangxue Xuebao/Acta Optica Sinica, 2020, 卷号: 40, 期号: 11, 页码: 8
作者:  S. Sun,C. Jin,B. Yu,T. Guo,S. Yao,C. Li and W. Deng
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基于表面等离激元的硅基微结构材料红外光学特性研究 学位论文
博士, 中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所): 中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所), 2018
作者:  刘小翼
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表面等离极化激元  法布里-珀罗谐振  损耗抑制  场增强  红外吸收  
Design and fabrication of EUV broadband multilayer mirrors with discrete thicknesses 期刊论文
Guangxue Jingmi Gongcheng/Optics and Precision Engineering, 2018, 卷号: 26, 期号: 10, 页码: 2395-2406
作者:  Kuang, Shang-Qi;  Li, Shuo;  Yang, Hai-Gui;  Huo, Tong-Lin;  Zhou, Hong-Jun
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Multilayers  Extreme ultraviolet lithography  Fabrication  Mirrors  Reflection  
Design and Fabrication of Broadband Discrete Extreme-ultraviolet Multilayer Based on Quantum State Genetic Algorithm 期刊论文
Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica, 2018, 卷号: 47, 期号: 4
作者:  Kuang, Shang-Qi;  Zhang, Chao;  Li, Shuo;  Yang, Hai-Gui;  Huo, Tong-Lin;  Zhou, Hong-Jun
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Quantum theory  Fabrication  Genetic algorithms  Magnetron sputtering  Multilayers  Reflection  
Application of improved quantum evolutionary algorithm in design of broadband EUV multilayer 期刊论文
Guangxue Jingmi Gongcheng/Optics and Precision Engineering, 2017, 卷号: 25, 期号: 8
作者:  Kuang, S.-Q.;  C. Zhang;  Y.-M. Wang;  X.-Y. Zhou and Y. Xie
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Impact of carbon contamination cleaning technologies on reflectivity of extreme ultraviolet lithography optics 期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2017, 卷号: 44, 期号: 3
作者:  Wang, Y.;  Q. Lu and Y. Gao
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