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Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究
孙诗壮; 金春水; 喻波; 郭涛; 姚舜; 李春; 邓文渊
2020-05-25
发表期刊光学学报
卷号40期号:10页码:196-202
摘要Mo/Si多层膜镀膜工艺是极紫外光刻的关键技术之一,为了优化并提升Mo/Si多层膜的镀膜工艺,研究了气压、靶-基底间距这两个工艺参数对Mo/Si多层膜表面粗糙度的影响。根据磁控溅射物理过程,建立了一个原子沉积的物理模型,分析了原子沉积到基底时的入射角度和入射能量分布对气压、靶-基底间距的影响。此外,利用直流磁控溅射镀膜机,制备了Mo/Si多层膜样片,并测量了膜表面粗糙度和功率谱密度,研究了膜表面粗糙度和功率谱密度随气压和靶-基底间距的演化规律。理论和实验的结论一致,所提模型从理论上解释了实验测量结果。
关键词薄膜 Mo/Si多层膜 极紫外光刻 磁控溅射 表面粗糙度 功率谱密度
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63990
专题中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
作者单位1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
2.中国科学院大学
推荐引用方式
GB/T 7714
孙诗壮,金春水,喻波,等. Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究[J]. 光学学报,2020,40(10):196-202.
APA 孙诗壮.,金春水.,喻波.,郭涛.,姚舜.,...&邓文渊.(2020).Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究.光学学报,40(10),196-202.
MLA 孙诗壮,et al."Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究".光学学报 40.10(2020):196-202.
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