Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究 | |
孙诗壮; 金春水 ; 喻波; 郭涛; 姚舜; 李春; 邓文渊
| |
| 2020-05-25 | |
| 发表期刊 | 光学学报
 |
| 卷号 | 40期号:10页码:196-202 |
| 摘要 | Mo/Si多层膜镀膜工艺是极紫外光刻的关键技术之一,为了优化并提升Mo/Si多层膜的镀膜工艺,研究了气压、靶-基底间距这两个工艺参数对Mo/Si多层膜表面粗糙度的影响。根据磁控溅射物理过程,建立了一个原子沉积的物理模型,分析了原子沉积到基底时的入射角度和入射能量分布对气压、靶-基底间距的影响。此外,利用直流磁控溅射镀膜机,制备了Mo/Si多层膜样片,并测量了膜表面粗糙度和功率谱密度,研究了膜表面粗糙度和功率谱密度随气压和靶-基底间距的演化规律。理论和实验的结论一致,所提模型从理论上解释了实验测量结果。 |
| 关键词 | 薄膜 Mo/Si多层膜 极紫外光刻 磁控溅射 表面粗糙度 功率谱密度 |
| URL | 查看原文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63990 |
| 专题 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 作者单位 | 1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 2.中国科学院大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙诗壮,金春水,喻波,等. Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究[J]. 光学学报,2020,40(10):196-202. |
| APA | 孙诗壮.,金春水.,喻波.,郭涛.,姚舜.,...&邓文渊.(2020).Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究.光学学报,40(10),196-202. |
| MLA | 孙诗壮,et al."Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究".光学学报 40.10(2020):196-202. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| Mo_Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的（2105KB） | 期刊论文 | 出版稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | |
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [孙诗壮]的文章 |
| [金春水]的文章 |
| [喻波]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [孙诗壮]的文章 |
| [金春水]的文章 |
| [喻波]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [孙诗壮]的文章 |
| [金春水]的文章 |
| [喻波]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论