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Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究
孙诗壮; 金春水; 喻波; 郭涛; 姚舜; 李春; 邓文渊
2020-06-10
发表期刊光学学报
卷号40期号:11页码:46-53
摘要使用分子动力学方法计算了Mo、Si原子发生反射和再溅射的概率,以及原子的反射、再溅射角度和能量分布。考虑了四种碰撞:Mo原子与Mo基底碰撞、Mo原子与Si基底碰撞、Si原子与Si基底碰撞、Si原子与Mo基底碰撞。模拟发现,当沉积原子传递给基底的能量降低时,发生反射的概率增加,但是发生再溅射的概率降低。此外,入射角度对反射概率、再溅射概率的影响与沉积原子和基底原子的种类有关;然而,入射能量越高越容易发生反射、再溅射。最后,进行了磁控溅射实验,在具有不同倾斜角度的基底上制备了Mo/Si多层膜样片,实验结论验证了仿真结果。研究结果可以用于模拟磁控溅射镀膜过程,优化镀膜工艺。
关键词原子与分子物理学 分子动力学 反射 再溅射 Mo/Si原子 角度分布 能量分布
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63991
专题中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
作者单位1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
2.中国科学院大学
推荐引用方式
GB/T 7714
孙诗壮,金春水,喻波,等. Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究[J]. 光学学报,2020,40(11):46-53.
APA 孙诗壮.,金春水.,喻波.,郭涛.,姚舜.,...&邓文渊.(2020).Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究.光学学报,40(11),46-53.
MLA 孙诗壮,et al."Mo/Si原子高能量沉积中反射和再溅射的研究".光学学报 40.11(2020):46-53.
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