CIOMP OpenIR

Browse/Search Results:  1-10 of 688 Help

Selected(0)Clear Items/Page:    Sort:
Ultraviolet electroluminescence from a n-ZnO film/p-GaN heterojunction under both forward and reverse bias 期刊论文
JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2018, 卷号: 6, 期号: 42, 页码: 11368-11373
Authors:  Ai, Qiu;  Liu, Kewei;  Ma, Hongyu;  Yang, Jialin;  Chen, Xing;  Li, Binghui;  Shen, Dezhen
Favorite  |  View/Download:9/0  |  Submit date:2019/08/21
大相对孔径紫外成像仪光学系统设计 期刊论文
中国光学, 2018, 期号: 02, 页码: 212-218
Authors:  崔穆涵;  田志辉;  周跃;  章明朝;  陈雪;  李佳起;  易翔宇
Favorite  |  View/Download:1/0  |  Submit date:2019/09/17
电晕探测  紫外成像仪  光学系统  大孔径  消色差  
基于谱段关联的近红外图像模拟方法 期刊论文
光子学报, 2018, 期号: 04, 页码: 157-164
Authors:  武红宇;  王灵丽;  钟兴;  苏志强;  陈关州;  白杨
Favorite  |  View/Download:4/0  |  Submit date:2019/09/17
遥感图像  近红外图像模拟  谱段关联性  基于GPU的SIFT算法  真彩色合成图像  去云去雾  
基于电子倍增的高光谱成像链模型的系统信噪比分析 期刊论文
光学学报, 2018, 期号: 11, 页码: 29-36
Authors:  余达;  刘金国;  何昕;  何家维;  陈佳豫;  张晓阳;  彭畅
Favorite  |  View/Download:0/0  |  Submit date:2019/09/17
探测器  高光谱成像  信噪比  电子倍增  太阳高度角  地物反射率  
基于TMS320F2812的航空相机自动调焦系统 期刊论文
数字技术与应用, 2018, 期号: 03, 页码: 88-90+92
Authors:  李保霖;  方新;  陈志超
Favorite  |  View/Download:3/0  |  Submit date:2019/09/17
自动调焦  DSP  TMS320F2812  航空相机  
轻小型大视场自由曲面离轴光学系统设计 期刊论文
红外与激光工程, 2018, 期号: 12, 页码: 225-231
Authors:  赵宇宸;  何欣;  张凯;  刘强;  崔永鹏;  孟庆宇
Favorite  |  View/Download:3/0  |  Submit date:2019/09/17
光学设计  离轴三反系统  自由曲面  公差分析  
远紫外光子计数成像探测器检测方法及分析 期刊论文
激光与光电子学进展, 2018, 期号: 06, 页码: 49-55
Authors:  张宏吉;  何玲平;  王海峰;  郑鑫;  韩振伟;  宋克非;  陈波
Favorite  |  View/Download:0/0  |  Submit date:2019/09/17
探测器  光子计数成像探测器  微通道板  远紫外  极光光谱  
用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析 期刊论文
光学精密工程, 2018, 期号: 03, 页码: 588-596
Authors:  沈晨;  谭鑫;  朱继伟;  张伟;  齐向东
Favorite  |  View/Download:1/0  |  Submit date:2019/09/17
衍射光栅  曲面闪耀光栅  光栅刻蚀  三维工作台  圆弧拟合算法  轨迹误差  
同轴偏视场共孔径面阵成像光学系统设计 期刊论文
红外与激光工程, 2018, 期号: 07, 页码: 218-225
Authors:  赵宇宸;  何欣;  冯文田;  刘强;  付亮亮;  谭进国;  孟庆宇
Favorite  |  View/Download:0/0  |  Submit date:2019/09/17
光学设计  面阵成像  同轴三反光学系统  共孔径  公差分析  
Refined grating fabrication using Displacement Talbot Lithography 期刊论文
Microelectronic Engineering, 2018, 卷号: 189, 页码: 74-77
Authors:  Chen, H.;  Qin, L.;  Chen, Y. Y.;  Jia, P.;  Gao, F.;  Chen, C.;  Liang, L.;  Zhang, X.;  Lou, H. W.;  Ning, Y. Q.;  Wang, L. J.
View  |  Adobe PDF(758Kb)  |  Favorite  |  View/Download:3/1  |  Submit date:2019/09/17
Refined grating fabrication  Displacement Talbot Lithography  Phase  shift mask  Photolighography  interferometric lithography  grids  Engineering  Science & Technology - Other Topics  Optics  Physics