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离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜 期刊论文
中国光学, 2016, 期号: 6, 页码: 649-655
作者:  才玺坤;  张立超;  时光;  贺健康;  武潇野;  梅林
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离子束溅射  应力  光学特性  膜厚均匀性  
光子计数成像探测器电荷感应层Ge薄膜特性研究 期刊论文
长春理工大学学报(自然科学版), 2016, 期号: 4, 页码: 38-41
作者:  郑鑫;  陈波;  王孝东;  张宏吉;  李云鹏;  于再超
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Ge薄膜  直流磁控溅射  Ar气通入量  沉积速率  电学性质  
2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性 期刊论文
光学精密工程, 2016, 期号: 7, 页码: 1557-1563
作者:  刘震;  高劲松;  刘海;  王笑夷;  王彤彤
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光学加工  磁控溅射  表面改性  Rb-sic  大口径  
离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性 期刊论文
中国光学, 2016, 期号: 3, 页码: 356-363
作者:  贺健康;  张立超;  才玺坤;  时光;  武潇野;  梅林
caj(320Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:314/86  |  提交时间:2017/09/17
离子束溅射  光学薄膜  沉积速率  二维拟合  膜厚均匀性