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The photoluminescence of ZnO thin films grown on Si (100) substrate by plasma-enhanced chemical vapor deposition 期刊论文
Journal of Crystal Growth, 2002, 卷号: 240, 期号: 3—4, 页码: 479-483
作者:  Li B. S.;  Liu Y. C.;  Zhi Z. Z.;  Shen D. Z.;  Lu Y. M.;  Zhang J. Y.;  Fan X. W.
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High quality ZnO thin films grown by plasma enhanced chemical vapor deposition 期刊论文
Journal of Applied Physics, 2002, 卷号: 91, 期号: 1, 页码: 501-505
作者:  Li B. S.;  Liu Y. C.;  Chu Z. S.;  Shen D. Z.;  Lu Y. M.;  Zhang J. Y.;  Fan X. W.
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Photoluminescence of ZnSe-ZnS single quantum wells grown by vapour phase epitaxy 期刊论文
Chinese Physics Letters, 2002, 卷号: 19, 期号: 1, 页码: 131-133
作者:  Lu Y. M.;  Shen D. Z.;  Liu Y. C.;  Li B. H.;  Zhang J. Y.;  Fan X. W.;  Iida S.;  Kato A.
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Optical properties of ZnCdSe/ZnMgSe multiple quantum wells grown by molecular beam epitaxy 期刊论文
Chinese Physics Letters, 2002, 卷号: 19, 期号: 8, 页码: 1152-1154
作者:  Lu Y. M.;  Shen D. Z.;  Liu Y. C.;  Li B. H.;  Liang H. W.;  Zhang J. Y.;  Fan X. W.
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Growth of high quality ZnO thin films at low temperature on Si(100) substrates by plasma enhanced chemical vapor deposition 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology a-Vacuum Surfaces and Films, 2002, 卷号: 20, 期号: 1, 页码: 265-269
作者:  Li B. S.;  Liu Y. C.;  Shen D. Z.;  Lu Y. M.;  Zhang J. Y.;  Kong X. G.;  Fan X. W.;  Zhi Z. Z.
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Growth of stoichiometric (002) ZnO thin films on Si (001) substrate by using plasma enhanced chemical vapor deposition 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology a-Vacuum Surfaces and Films, 2002, 卷号: 20, 期号: 5, 页码: 1779-1783
作者:  Li B. S.;  Liu Y. C.;  Zhi Z. Z.;  Shen D. Z.;  Zhang J. Y.;  Lu Y. M.;  Fan X. W.;  Kong X. G.
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Effect of the growth temperature on ZnO thin films grown by plasma enhanced chemical vapor deposition 期刊论文
Thin Solid Films, 2002, 卷号: 414, 期号: 2, 页码: 170-174
作者:  Li B. S.;  Liu Y. C.;  Zhi Z. Z.;  Shen D. Z.;  Lu Y. M.;  Zhang J. Y.;  Kong X. G.;  Fan X. W.
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Growth and evolution of ZnCdSe quantum dots 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology B, 2002, 卷号: 20, 期号: 3, 页码: 1102-1106
作者:  Shan C. X.;  Fan X. W.;  Zhang J. Y.;  Zhang Z. Z.;  Li B. S.;  Lu Y. M.;  Liu Y. C.;  Shen D. Z.;  Kong X. G.;  Wang X. H.
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