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Speckle pattern sequential extraction metric for estimating the focus spot size on a remote diffuse target 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 32
作者:  Yu, Z.;  Y. Y. Li;  L. S. Liu;  J. Guo;  T. F. Wang and G. Q. Yang
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Weighted iterative algorithm for beam alignment in scanning beam interference lithography 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 31
作者:  Song, Y.;  W. Wang;  S. Jiang;  Bayanheshig and N. Zhang
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Point target detection based on multiscale morphological filtering and an energy concentration criterion 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 24
作者:  Liu, R.;  D. J. Wang;  D. B. Zhou and P. Jia
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Large-aperture space optical system testing based on the scanning Hartmann 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 8
作者:  Wei, H. S.;  F. Yan;  X. D. Chen;  H. Zhang;  Q. Cheng;  D. L. Xue;  X. F. Zeng and X. J. Zhang
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Precise calibration of pupil images in pyramid wavefront sensor 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 12
作者:  Liu, Y.;  Q. Q. Mu;  Z. L. Cao;  L. F. Hu;  C. L. Yang and L. Xuan
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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