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用低压反应离子镀技术制备的类金刚石薄膜及其表征 期刊论文
红外, 2011, 期号: 08, 页码: 8-11
作者:  单兆会;  高劲松;  王彤彤;  申振峰;  陈红
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低压反应离子镀  类金刚石薄膜  拉曼光谱  显微硬度  
RLVIP技术制备Ge_1_x_C_x薄膜的X射线光电子能谱 期刊论文
光学精密工程, 2008, 期号: 4
作者:  高劲松
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用低压反应离子镀的方法制备Ge_1_x_C_x单层非均匀增透膜的研究 期刊论文
光学技术, 2007, 期号: 2
作者:  高劲松
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低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究 期刊论文
光学仪器, 2006, 卷号: 28, 期号: 4, 页码: 79
作者:  高劲松;  王笑夷
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低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜 期刊论文
光学技术, 2005, 期号: 05, 页码: 669-671
作者:  徐颖;  高劲松;  王笑夷;  陈红;  冯君刚
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低压反应离子镀  Ito透明导电膜  透过率  方块电阻  
ITO材料在减反射膜设计中的应用 期刊论文
光子学报, 2005, 期号: 08, 页码: 1187-1189
作者:  徐颖;  高劲松;  王笑夷;  陈红;  王彤彤
caj(115Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:365/65  |  提交时间:2013/03/11
Ito透明导电膜  低压反应离子镀  方块电阻  减反射膜  
低压反应离子镀方法制备碳锗合金膜 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2004-12-15, 公开日期: 2012-08-29
发明人:  王笑夷;  高劲松
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