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低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究
高劲松; 王笑夷
2006
发表期刊光学仪器
ISSN1005-5630
卷号28期号:4页码:79
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/22836
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
高劲松,王笑夷. 低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究[J]. 光学仪器,2006,28(4):79.
APA 高劲松,&王笑夷.(2006).低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究.光学仪器,28(4),79.
MLA 高劲松,et al."低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究".光学仪器 28.4(2006):79.
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