Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究 | |
高劲松; 王笑夷 | |
2006 | |
发表期刊 | 光学仪器 |
ISSN | 1005-5630 |
卷号 | 28期号:4页码:79 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/22836 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 高劲松,王笑夷. 低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究[J]. 光学仪器,2006,28(4):79. |
APA | 高劲松,&王笑夷.(2006).低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究.光学仪器,28(4),79. |
MLA | 高劲松,et al."低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄膜的硬度研究".光学仪器 28.4(2006):79. |
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低压反应离子镀制备Ge_1_x_C_x薄(157KB) | 开放获取 | -- | 浏览 下载 |
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