Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜 | |
徐颖; 高劲松 ; 王笑夷; 陈红; 冯君刚
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| 2005-09-20 | |
| 发表期刊 | 光学技术
 |
| 期号 | 05页码:669-671 |
| 关键词 | 低压反应离子镀 Ito透明导电膜 透过率 方块电阻 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29236 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 徐颖,高劲松,王笑夷,等. 低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜[J]. 光学技术,2005(05):669-671. |
| APA | 徐颖,高劲松,王笑夷,陈红,&冯君刚.(2005).低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜.光学技术(05),669-671. |
| MLA | 徐颖,et al."低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜".光学技术 .05(2005):669-671. |
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