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基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量 期刊论文
中国激光, 2015, 期号: 07, 页码: 267-272
作者:  王辉;  周烽;  喻波;  谢耀;  于杰;  刘钰;  王丽萍
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测量  光刻技术  有限元分析  高复现性支撑装置  薄膜均匀性测量  
157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展 期刊论文
材料导报, 2003, 期号: 06, 页码: 34-36
作者:  臧春雨;  曹望和;  石春山
caj(186Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：429/77  |  提交时间：2013/03/11
半导体制造业  157nm紫外光刻技术  Caf_2晶体  双折射  
极紫外投影光刻技术 期刊论文
科学通报, 1998, 期号: 08, 页码: 785-791
作者:  王占山;  曹健林;  陈星旦
caj(58Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：301/46  |  提交时间：2013/03/11
极紫外  集成电路  光刻技术