中文版 | English

在结果中检索

CIOMP OpenIR

浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助

已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量 期刊论文
中国激光, 2015, 期号: 07, 页码: 267-272
作者:  王辉;  周烽;  喻波;  谢耀;  于杰;  刘钰;  王丽萍
caj(1280Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：392/142  |  提交时间：2016/07/06
测量  光刻技术  有限元分析  高复现性支撑装置  薄膜均匀性测量  
157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展 期刊论文
材料导报, 2003, 期号: 06, 页码: 34-36
作者:  臧春雨;  曹望和;  石春山
caj(186Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：454/81  |  提交时间：2013/03/11
半导体制造业  157nm紫外光刻技术  Caf_2晶体  双折射  
极紫外投影光刻技术 期刊论文
科学通报, 1998, 期号: 08, 页码: 785-791
作者:  王占山;  曹健林;  陈星旦
caj(58Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：309/49  |  提交时间：2013/03/11
极紫外  集成电路  光刻技术