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Signal-to-noise ratio enhancement of a Hadamard transform spectrometer using a two-dimensional slit-array 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 25
作者:  Chi, M. B.;  Y. H. Wu;  F. Qian;  P. Hao;  W. C. Zhou and Y. S. Liu
浏览  |  Adobe PDF(699Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：336/106  |  提交时间：2018/06/08
Generation of coherent and incoherent Airy beam arrays and experimental comparisons of their scintillation characteristics in atmospheric turbulence 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 13
作者:  Lu, Q.;  S. J. Gao;  L. Sheng;  J. B. Wu and Y. F. Qiao
浏览  |  Adobe PDF(1183Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：282/90  |  提交时间：2018/06/13
Modified surface testing method for large convex aspheric surfaces based on diffraction optics 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 34
作者:  Zhang, H. D.;  X. K. Wang;  D. L. Xue and X. J. Zhang
浏览  |  Adobe PDF(1023Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：242/75  |  提交时间：2018/06/13
Large-aperture space optical system testing based on the scanning Hartmann 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 8
作者:  Wei, H. S.;  F. Yan;  X. D. Chen;  H. Zhang;  Q. Cheng;  D. L. Xue;  X. F. Zeng and X. J. Zhang
浏览  |  Adobe PDF(1198Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：312/105  |  提交时间：2018/06/13
Improved generation method utilizing a modified Fourier spectrum for Airy beams with the phase-only filter technique 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 25
作者:  Ling, J. Y.;  Q. Y. Yang;  S. X. Zhang;  Q. Lu;  S. Liu and C. Z. Guo
浏览  |  Adobe PDF(1463Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：239/52  |  提交时间：2018/06/13
Precise calibration of pupil images in pyramid wavefront sensor 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 12
作者:  Liu, Y.;  Q. Q. Mu;  Z. L. Cao;  L. F. Hu;  C. L. Yang and L. Xuan
浏览  |  Adobe PDF(1665Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：270/81  |  提交时间：2018/06/13
Beam drift error and control technology for scanning beam interference lithography 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 14
作者:  Wang, W.;  Y. Song;  S. Jiang;  M. Z. Pan and Bayanheshing
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High-performance laser projection display illumination system based on a diffractive optical element 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 10
作者:  Liang, C. Y.;  W. Zhang;  D. W. Rui;  Y. X. Sui and H. J. Yang
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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Computational method for simulation of thermal load distribution in a lithographic lens 期刊论文
Applied Optics, 2016, 卷号: 55, 期号: 15
作者:  Yu, X. F.;  M. Y. Ni;  D. W. Rui;  Y. Qu and W. Zhang
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