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Optical system design of an atmospheric detector with nadir view and omnidirectional limb view 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Wang, X. H. and Q. S. Xue
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Study on a wideband, variable aperture, high resolution scatterometer for planar diffraction grating stray light measurement 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 2
作者:  Yang, J.;  R. Zhang;  L. Yin;  C. Sun and T. J. Li
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Sharp bend in two-dimensional optical waveguide based on gradient refractive index structure 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 19
作者:  Cao, Y. H.;  R. Mittra;  Z. Y. Liu and J. Zheng
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Methods of polarimetric calibration and reconstruction for a fieldable channeled dispersive imaging spectropolarimeter 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 30
作者:  Yang, B.;  J. Q. Zhang;  C. X. Yan and X. P. Ju
浏览  |  Adobe PDF(2168Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：277/76  |  提交时间：2018/06/13
Performance improvement of coherent free-space optical communication with quadrature phase-shift keying modulation using digital phase estimation 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 16
作者:  Li, X. L.;  T. W. Geng;  S. Ma;  Y. T. Li;  S. J. Gao and Z. Y. Wu
浏览  |  Adobe PDF(1220Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：433/129  |  提交时间：2018/06/13
Analysis and reduction of the TDI CCD charge transfer image shift 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 33
作者:  Li, Y. H.;  X. D. Wang;  W. G. Liu and Z. Wang
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Error analysis of large-diameter subaperture stitching Fresnel diffractive elements 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 27
作者:  Zhang, H. L.;  H. Liu;  W. B. Xu;  A. Lizana;  X. D. Wang and Z. W. Lu
浏览  |  Adobe PDF(946Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：248/56  |  提交时间：2018/06/13
Improved generation method utilizing a modified Fourier spectrum for Airy beams with the phase-only filter technique 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 25
作者:  Ling, J. Y.;  Q. Y. Yang;  S. X. Zhang;  Q. Lu;  S. Liu and C. Z. Guo
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Precise calibration of pupil images in pyramid wavefront sensor 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 12
作者:  Liu, Y.;  Q. Q. Mu;  Z. L. Cao;  L. F. Hu;  C. L. Yang and L. Xuan
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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