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离子注入机 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2006-10-25, 公开日期: 2006-10-25
发明人:  付国柱;  邵喜斌;  荆海;  廖燕平;  高文涛;  史辉琨
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多晶硅薄膜晶体管离子注入机 (实用新型) 专利
专利类型: 实用新型, 申请日期: 2005-01-19, 公开日期: 2005-01-19
发明人:  付国柱;  邵喜斌;  荆海;  廖燕平;  高文涛;  史辉琨
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氢原子在Cat-CVD法制备多晶硅薄膜中的作用 期刊论文
液晶与显示, 2004, 期号: 06, 页码: 450-454
作者:  邝俊峰;  付国柱;  高博;  高文涛;  黄金英;  廖燕平;  荆海
caj(53Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：363/76  |  提交时间：2013/03/11
多晶硅薄膜  氢原子  催化化学气相沉积