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Comparative study of properties of ZnO/GaN/Al2O3 and ZnO/Al2O3 films grown by low-pressure metal organic chemical vapour deposition 期刊论文
Chinese Physics Letters, 2003, 卷号: 20, 期号: 11, 页码: 2045-2048
作者:  Zhao B. J.;  Yang H. J.;  Du G. T.;  Miao G. Q.;  Yang T. P.;  Zhang Y. T.;  Gao Z. M.;  Wang J. Z.;  Fang X. J.;  Liu D. L.;  Li W. C.;  Ma Y.;  Yang X. T.;  Liu B. Y.
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Effects of chamber pressure on current-voltage characteristic of metal-insulator-metal element in heat-treating anodized Ta2O5 film 期刊论文
Chinese Physics Letters, 1999, 卷号: 16, 期号: 11, 页码: 838-840
作者:  Liu H. W.;  Gao C. X.;  Wang H.;  Cui Q. L.;  Zou G. T.;  Huang X. M.
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