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用衍射仪测量等周期多层膜膜厚随机变化量的方法 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2007-08-08, 公开日期: 2007-08-08
发明人:  杨雄;  姚志华;  张立超;  金卫华;  金春水
Adobe PDF(289Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：453/65  |  提交时间：2012/08/29
粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响 期刊论文
光电工程, 2005, 期号: 10, 页码: 80-83
作者:  杨雄;  金春水;  姚志华;  曹健林
caj(1187Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：461/103  |  提交时间：2013/03/11
极紫外投影光刻  掩模  粗糙度  反射光谱  多层膜  
X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备 期刊论文
光学学报, 2005, 期号: 10, 页码: 139-141
作者:  姚志华;  金春水;  杨雄;  张立超;  金伟华;  曹健林
caj(88Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：462/83  |  提交时间：2013/03/11
X射线光学  宽带多层膜  评价函数  遗传算法  磁控溅射  
极紫外投影光刻掩模技术 期刊论文
微细加工技术, 2003, 期号: 03, 页码: 16-21+41
作者:  杨雄;  金春水;  曹健林
caj(88Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：370/67  |  提交时间：2013/03/11
极紫外  投影光刻  多层膜  掩模