Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响 | |
杨雄; 金春水 ; 姚志华; 曹健林
| |
| 2005-10-30 | |
| 发表期刊 | 光电工程
 |
| 期号 | 10页码:80-83 |
| 关键词 | 极紫外投影光刻 掩模 粗糙度 反射光谱 多层膜 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29250 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨雄,金春水,姚志华,等. 粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响[J]. 光电工程,2005(10):80-83. |
| APA | 杨雄,金春水,姚志华,&曹健林.(2005).粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响.光电工程(10),80-83. |
| MLA | 杨雄,et al."粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响".光电工程 .10(2005):80-83. |
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| 粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响.caj（1187KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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