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Analysis and correction of the distortion error in a DMD based scanning lithography system 期刊论文
Optics Communications, 2019, 卷号: 434, 页码: 1-6
作者:  Q.K.Li;  Y.Xiao;  H.Liu;  H.L.Zhang;  J.Xu;  J.H.Li
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Microlithography,Lithography,Digital image processing,maskless lithography,fabrication,Optics  
A beam homogenizer for digital micromirror device lithography system based on random freeform microlenses 期刊论文
Optics Communications, 2019, 卷号: 443, 页码: 211-215
作者:  Z.Y.Liu;  H.Liu;  Z.F.Lu;  Q.K.Li;  J.H.Li
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Homogenizer,Microlens array,Freeform surface,DMD lithography system,laser,optics  
SNR analysis and Hadamard mask modification of DMD Hadamard Transform Near-Infrared spectrometer 期刊论文
Optics Communications, 2017, 卷号: 383
作者:  Xu, J. L.;  H. Liu;  C. B. Lin and Q. Sun
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Correction and analysis of noise in Hadamard transform spectrometer with digital micro-mirror device and double sub-gratings 期刊论文
Optics Communications, 2016, 卷号: 359
作者:  Quan, X. Q.;  H. Liu;  Z. W. Lu;  X. Z. Chen;  X. D. Wang;  J. L. Xu and Q. Gao
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