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低温p-Si薄膜的制备研究 期刊论文
世界电子元器件, 2001, 期号: 11, 页码: 11-12
作者:  荆海;  邱法斌;  刘传珍;  付国柱
caj(191Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：447/77  |  提交时间：2013/03/11
薄膜材料:4711  激光能量密度:4246  多晶硅:4023  膜的制备:3777  激光退火:3106  金属诱导:2364  液晶显示技术:2337  硅薄膜:1706  结晶度:1693  中国科学院:1680