Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 低温p-Si薄膜的制备研究 | |
| 荆海; 邱法斌; 刘传珍; 付国柱 | |
| 2001-11-15 | |
| 发表期刊 | 世界电子元器件
 |
| 期号 | 11页码:11-12 |
| 关键词 | 薄膜材料:4711 激光能量密度:4246 多晶硅:4023 膜的制备:3777 激光退火:3106 金属诱导:2364 液晶显示技术:2337 硅薄膜:1706 结晶度:1693 中国科学院:1680 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29123 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 荆海,邱法斌,刘传珍,等. 低温p-Si薄膜的制备研究[J]. 世界电子元器件,2001(11):11-12. |
| APA | 荆海,邱法斌,刘传珍,&付国柱.(2001).低温p-Si薄膜的制备研究.世界电子元器件(11),11-12. |
| MLA | 荆海,et al."低温p-Si薄膜的制备研究".世界电子元器件 .11(2001):11-12. |
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