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Spectral reduction model for an echelle spectrometer based on a digital micromirror device and photomultiplier 期刊论文
Applied Optics, 2021, 卷号: 60, 期号: 29, 页码: 9101-9109
作者:  Y. C. Li;  W. Y. Jiang;  C. S. Li;  Z. Y. Ma;  Y. Q. Yang and D. Tian
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Jones pupil decomposition and its lithographic imaging impacts 期刊论文
Applied Optics, 2021, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: 1357-1365
作者:  Z. Niu;  M. Ding;  J. Jiang;  H. Shang;  S. Zhu;  F. Zhang;  W. Shi;  A. Zeng and H. Huang
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Method for exposure dose monitoring and control in scanning beam interference lithography 期刊论文
Applied Optics, 2021, 卷号: 60, 期号: 10, 页码: 2767-2774
作者:  Y. Song;  Y. Liu;  S. Jiang;  Y. Zhu;  L. Zhang and Z. Liu
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