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方位角自动调整的太阳光照模拟方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: 201210279822.9, 申请日期: 2014-10-15, 公开日期: 2014-10-15
发明人:  方伟;  王红睿;  王玉鹏;  叶新
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大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置 （发明） 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: 1059039, 申请日期: 1992-02-26, 公开日期: 2012-09-14
发明人:  仲跻功
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大面积紫外光刻(曝光)机的光学系统 （实用新型） 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: 2074024, 申请日期: 1991-03-27, 公开日期: 1991-03-27
发明人:  仲跻功
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