大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置 （发明）

	大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置（发明）
	仲跻功
	1992-02-26
专利权人	中国科学院长春光学精密机械研究所
公开日期	2012-09-14
专利类型	发明专利
摘要	本发明涉及一种接触／接近式大面积紫外均匀辐照光刻（曝光）的方法及其装置，采用了可将辐照面内辐照不均匀度与曝光过程中产生的曝光不均匀度互相补偿的偶数光通道光学积分器、复合式高次非球面的聚光镜和可移动式曝光方式，使得在增大有效辐照面积的同时提高了曝光均匀度，为液晶……
申请日期	1990-08-15
专利号	1059039
语种	中文
申请号	90107038.6
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12668
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	仲跻功. 大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置（发明）. 1059039[P]. 1992-02-26.