大面积紫外光刻(曝光)机的光学系统 （实用新型）

	大面积紫外光刻(曝光)机的光学系统（实用新型）
	仲跻功
	1991-03-27
专利权人	中国科学院长春光学精密机械研究所
公开日期	1991-03-27
专利类型	实用新型
摘要	大面积紫外光刻（曝光）机的光学系统。本实用新型涉及一种紫外光刻（曝光）设备，特别是用于接触／接近式大面积紫外光刻（曝光）机的光学系统。由于采用了可将辐照面内辐照不均匀度与曝光过程中产生的曝光不均匀度互相补偿的偶数光通道光学积分器和复合高次非球面的聚光镜，使得在……
申请日期	1990-08-15
专利号	2074024
语种	中文
申请号	90218131.9
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12812
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	仲跻功. 大面积紫外光刻(曝光)机的光学系统（实用新型）. 2074024[P]. 1991-03-27.