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Field diversity phase retrieval method for wavefront sensing in monolithic mirror space telescopes 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 15
作者:  Ju, G. H.;  C. X. Yan;  D. Yue and Z. Y. Gu
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Reduction of the effects of angle errors for a channeled spectropolarimeter 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 33
作者:  Ju, X. P.;  B. Yang;  J. Q. Zhang and C. X. Yan
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Signal-to-noise ratio enhancement of a Hadamard transform spectrometer using a two-dimensional slit-array 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 25
作者:  Chi, M. B.;  Y. H. Wu;  F. Qian;  P. Hao;  W. C. Zhou and Y. S. Liu
Adobe PDF(699Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：329/105  |  提交时间：2018/06/08
Generation of coherent and incoherent Airy beam arrays and experimental comparisons of their scintillation characteristics in atmospheric turbulence 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 13
作者:  Lu, Q.;  S. J. Gao;  L. Sheng;  J. B. Wu and Y. F. Qiao
Adobe PDF(1183Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：276/90  |  提交时间：2018/06/13
Analysis and reduction of the TDI CCD charge transfer image shift 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 33
作者:  Li, Y. H.;  X. D. Wang;  W. G. Liu and Z. Wang
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Positive dwell time algorithm with minimum equal extra material removal in deterministic optical surfacing technology 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 32
作者:  Li, L. X.;  D. L. Xue;  W. J. Deng;  X. Wang;  Y. Bai;  F. Zhang and X. J. Zhang
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Analysis of a holographic laser adaptive optics system using a deformable mirror 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 23
作者:  Yao, K. N.;  J. L. Wang;  X. Y. Liu;  X. D. Lin and L. Chen
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High-performance laser projection display illumination system based on a diffractive optical element 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 10
作者:  Liang, C. Y.;  W. Zhang;  D. W. Rui;  Y. X. Sui and H. J. Yang
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Relationship analysis between transient thermal control mode and image quality for an aerial camera 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 4
作者:  Liu, W. Y.;  Y. S. Xu;  Y. Yao;  Y. L. Xu;  H. H. Shen and Y. L. Ding
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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