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绝对共轭共聚焦拉曼光谱技术研究 期刊论文
光电工程, 2021, 卷号: 48, 期号: 06, 页码: 4-12
作者:  尚林东;  梁鹏;  吴青宜;  肖东洋;  徐立伟;  刘坤香;  李备
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接近式光刻刻划间隙的确定 期刊论文
仪器仪表学报, 1997, 期号: 04, 页码: 81-84+97
作者:  付永启
caj(76Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：382/68  |  提交时间：2013/03/11
刻划间隙:7286  接近式光刻:5937  刻线质量:2182  线密度:1418  光强度分布:1194  菲涅耳衍射:1113  掩模板:949  衍射效应:715  泰伯效应:634  定量分析:622  
接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析 期刊论文
光学精密工程, 1996, 期号: 05, 页码: 112-116
作者:  付永启;  朱应时
caj(0Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：357/64  |  提交时间：2013/03/11
接近式光刻  刻划间隙  刻线质量