Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 接近式光刻刻划间隙的确定 | |
| 付永启 | |
| 1997-08-20 | |
| 发表期刊 | 仪器仪表学报
 |
| 期号 | 04页码:81-84+97 |
| 关键词 | 刻划间隙:7286 接近式光刻:5937 刻线质量:2182 线密度:1418 光强度分布:1194 菲涅耳衍射:1113 掩模板:949 衍射效应:715 泰伯效应:634 定量分析:622 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/31680 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 付永启. 接近式光刻刻划间隙的确定[J]. 仪器仪表学报,1997(04):81-84+97. |
| APA | 付永启.(1997).接近式光刻刻划间隙的确定.仪器仪表学报(04),81-84+97. |
| MLA | 付永启."接近式光刻刻划间隙的确定".仪器仪表学报 .04(1997):81-84+97. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 接近式光刻刻划间隙的确定.caj（76KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [付永启]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [付永启]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [付永启]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论