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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
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出处:Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers
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Impact of carbon contamination cleaning technologies on reflectivity of extreme ultraviolet lithography optics
期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2017, 卷号: 44, 期号: 3
作者:
Wang, Y.
;
Q. Lu and Y. Gao
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提交时间:2018/06/13
Design and fabrication of broadband Mo/Si multilayer films for extreme ultra violet lithography illumination system
期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2016, 卷号: 43, 期号: 4
作者:
Yu, B.
;
C. Li
;
C. Jin and C. Wang
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提交时间:2017/09/11
Measurement of thickness uniformity of optic multilayer based on surface figure measurement
期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2015, 卷号: 42, 期号: 7
作者:
Wang, H.
;
F. Zhou
;
B. Yu
;
Y. Xie
;
J. Yu
;
Y. Liu and L. Wang
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提交时间:2016/08/24