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Impact of carbon contamination cleaning technologies on reflectivity of extreme ultraviolet lithography optics 期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2017, 卷号: 44, 期号: 3
作者:  Wang, Y.;  Q. Lu and Y. Gao
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Design and fabrication of broadband Mo/Si multilayer films for extreme ultra violet lithography illumination system 期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2016, 卷号: 43, 期号: 4
作者:  Yu, B.;  C. Li;  C. Jin and C. Wang
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Measurement of thickness uniformity of optic multilayer based on surface figure measurement 期刊论文
Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers, 2015, 卷号: 42, 期号: 7
作者:  Wang, H.;  F. Zhou;  B. Yu;  Y. Xie;  J. Yu;  Y. Liu and L. Wang
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