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Analysis and correction of the distortion error in a DMD based scanning lithography system 期刊论文
Optics Communications, 2019, 卷号: 434, 页码: 1-6
作者:  Q.K.Li;  Y.Xiao;  H.Liu;  H.L.Zhang;  J.Xu;  J.H.Li
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Microlithography,Lithography,Digital image processing,maskless lithography,fabrication,Optics  
Illumination uniformity improvement in digital micromirror device based scanning photolithography system 期刊论文
Optics Express, 2018, 卷号: 26, 期号: 14, 页码: 18597-18607
作者:  Xiong, Z.;  Liu, H.;  Chen, R. H.;  Xu, J.;  Li, Q. K.;  Li, J. H.;  Zhang, W. J.
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maskless lithography  dmd  fabrication  elements  Optics