中文版 | English

在结果中检索

CIOMP OpenIR

浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助

已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律 期刊论文
光学学报, 2012, 期号: 03, 页码: 9-15
作者:  韩建;  巴音贺希格;  李文昊;  孔鹏
caj(589Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：635/204  |  提交时间：2013/03/11
光栅  曝光量  条纹对比度  占宽比  槽深