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接近式光刻刻划间隙的确定 期刊论文
仪器仪表学报, 1997, 期号: 04, 页码: 81-84+97
作者:  付永启
caj(76Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：473/93  |  提交时间：2013/03/11
刻划间隙:7286  接近式光刻:5937  刻线质量:2182  线密度:1418  光强度分布:1194  菲涅耳衍射:1113  掩模板:949  衍射效应:715  泰伯效应:634  定量分析:622  
动态目标发生器圆鼓图形光刻掩模板的研制 期刊论文
光学精密工程, 1996, 期号: 01, 页码: 29-32
作者:  付永启;  刘怀道
caj(104Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：749/70  |  提交时间：2013/03/12
动态目标发生器  圆鼓图形  光学刻划  掩模板