CIOMP OpenIR

浏览/检索结果: 共4条,第1-4条 帮助

已选(0)清除 条数/页:   排序方式:
机刻光栅复合基底对薄膜内应力的影响研究 期刊论文
机械设计与制造, 2020, 期号: 05, 页码: 37-40
作者:  张宝庆;  张绍泽;  曹聪;  高劲松
浏览  |  Adobe PDF(1587Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:230/73  |  提交时间:2021/07/06
机刻光栅  复合基底  残余应力  薄膜  压痕  模拟  
残余应力与基底效应对光栅厚铝膜纳米压痕耦合影响研究 期刊论文
制造技术与机床, 2018, 期号: 06, 页码: 58-62
作者:  张宝庆;  王占鹏;  庞壮;  韦赟杰;  孙立华;  高劲松
收藏  |  浏览/下载:222/0  |  提交时间:2019/09/17
残余应力  基底效应  纳米压痕  衍射光栅  
碳化硅光学表面抛光机理研究 期刊论文
激光与光电子学进展, 2012, 期号: 02, 页码: 131-134
作者:  范镝
caj(147Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:705/184  |  提交时间:2013/03/11
光学制造  抛光机理  碳化硅  压痕断裂模型  
光学材料的浅低温抛光方法 期刊论文
航空精密制造技术, 1999, 期号: 06, 页码: 1-5
作者:  韩荣久;  安贵生;  刘要武;  裴舒;  梁荣;  张云;  吴校生;  王立江
caj(398Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:534/80  |  提交时间:2013/03/11
浅低温抛光  抛光模层  抛光液  压痕