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接近式光刻刻划间隙的确定 期刊论文
仪器仪表学报, 1997, 期号: 04, 页码: 81-84+97
作者:  付永启
caj(76Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：456/80  |  提交时间：2013/03/11
刻划间隙:7286  接近式光刻:5937  刻线质量:2182  线密度:1418  光强度分布:1194  菲涅耳衍射:1113  掩模板:949  衍射效应:715  泰伯效应:634  定量分析:622  
接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析 期刊论文
光学精密工程, 1996, 期号: 05, 页码: 112-116
作者:  付永启;  朱应时
caj(0Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：531/73  |  提交时间：2013/03/11
接近式光刻  刻划间隙  刻线质量  
极小刻划间隙下的衍射光强度变化规律分析 期刊论文
光学精密工程, 1996, 期号: 03, 页码: 91-94
作者:  付永启;  赵兴国
caj(105Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：562/61  |  提交时间：2013/03/11
极小刻划间隙  衍射  相对光强度