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粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响 期刊论文
光电工程, 2005, 期号: 10, 页码: 80-83
作者:  杨雄;  金春水;  姚志华;  曹健林
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极紫外投影光刻  掩模  粗糙度  反射光谱  多层膜  
X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备 期刊论文
光学学报, 2005, 期号: 10, 页码: 139-141
作者:  姚志华;  金春水;  杨雄;  张立超;  金伟华;  曹健林
caj(88Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:469/84  |  提交时间:2013/03/11
X射线光学  宽带多层膜  评价函数  遗传算法  磁控溅射