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Speckle pattern sequential extraction metric for estimating the focus spot size on a remote diffuse target 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 32
作者:  Yu, Z.;  Y. Y. Li;  L. S. Liu;  J. Guo;  T. F. Wang and G. Q. Yang
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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