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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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Analysis of thermo-optic effect-based refractive index dynamic modulation in microspherical resonator 期刊论文
Applied Optics, 2015, 卷号: 54, 期号: 28, 页码: 8363-8368
作者:  Wang, Y.;  Q. L. Wang;  S. Zhou;  J. F. Wu and Y. H. Wu
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