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Improved generation method utilizing a modified Fourier spectrum for Airy beams with the phase-only filter technique 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 25
作者:  Ling, J. Y.;  Q. Y. Yang;  S. X. Zhang;  Q. Lu;  S. Liu and C. Z. Guo
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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