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极紫外光刻机多层膜反射镜表面碳污染的清洗
宋源; 卢启鹏; 龚学鹏; 王依; 彭忠琦
2017-11-15
发表期刊光学精密工程
页码2835-2844
摘要针对极紫外(EUV)光刻机工作过程中,多层膜反射镜表面沉积碳污染造成的反射率下降问题展开研究,讨论了多层膜反射镜表面碳污染清洗方法。首先描述了在EUV曝光过程中多层膜表面的碳污染形成过程,简单阐述了碳污染对多层膜反射镜的危害。然后从清洗机理、速率以及效果等方面详细描述了多种EUV多层膜表面碳污染清洗方法,分析对比了各清洗技术在清洗速率和效果等方面的优缺点。分析表明:离子体氧和活化氧清洗速率相差不多,可达到2nm/min,但清洗过程中容易造成表面氧化;等离子体氢和原子氢的清洗速率相对较慢,一般在0.37nm/min左右,但清洗过程中不易产生氧化。最后针对不同方法应用于在线清洗EUV多层膜反射镜过程中将遇到的问题和难点进行了讨论。
关键词极紫外光刻机 碳污染 清洗技术 多层膜反射镜
DOI8C85F7EFB787CC68F89DED4B0F476AAF
语种中文
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58785
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
宋源,卢启鹏,龚学鹏,等. 极紫外光刻机多层膜反射镜表面碳污染的清洗[J]. 光学精密工程,2017:2835-2844.
APA 宋源,卢启鹏,龚学鹏,王依,&彭忠琦.(2017).极紫外光刻机多层膜反射镜表面碳污染的清洗.光学精密工程,2835-2844.
MLA 宋源,et al."极紫外光刻机多层膜反射镜表面碳污染的清洗".光学精密工程 (2017):2835-2844.
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