中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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	一种用于ＥＵＶ光刻系统的复眼反射镜制作方法 (发明)
	金春水; 王辉; 郑琪峰; 周烽; 王丽萍
	2012-03-21
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2012-08-29
专利类型	发明专利
摘要	一种用于ＥＵＶ光刻系统的复眼反射镜制作方法，涉及ＥＵＶ光刻技术领域，它解决现有复眼反射镜采用紧密拼接实现单块反射镜位置精度的方法适用于反射镜数量较少情况，并且当反射镜的数量增加时存在单块反射镜定位误差累积的问题，其方法为：选择直径为一寸的硅块表面电镀厚度为１００μｍ的镍层，再在硅块的另一表面上进行精抛加工，采用精密线切……
资助项目	102385082A
申请号	201110337987.2
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12065
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	金春水,王辉,郑琪峰,等. 一种用于ＥＵＶ光刻系统的复眼反射镜制作方法 (发明)[P]. 2012-03-21.

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CN201210238508200000（266KB）			开放获取	--	浏览 下载

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