Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
一种平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法 (发明) | |
巴音贺希格; 齐向东; 李英海; 于宏柱; 李文昊 | |
2008-02-27 | |
专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
公开日期 | 2008-02-27 |
专利类型 | 发明专利 |
摘要 | 一种平面全息光栅制作中精确控制光栅刻线密度的方法,属于光谱技术领域中涉及的一种方法。要解决的技术问题:提供一种平面全息光栅制作中精确控制光栅刻线密度的方法。解决的技术方案:第一,配备一套全息光栅曝光装置,第二,在该装置光路中置入标准机刻光栅和半反射镜,再从准直反射镜光路中分出光路,使其产生干涉条纹,第三,在光路中取出标…… |
资助项目 | 100371834 |
申请号 | 200310115844.2 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11303 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 巴音贺希格,齐向东,李英海,等. 一种平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法 (发明)[P]. 2008-02-27. |
条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN200400154499400000(484KB) | 开放获取 | -- | 浏览 下载 |
个性服务 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[巴音贺希格]的文章 |
[齐向东]的文章 |
[李英海]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[巴音贺希格]的文章 |
[齐向东]的文章 |
[李英海]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[巴音贺希格]的文章 |
[齐向东]的文章 |
[李英海]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论