中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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	一种平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法 (发明)
	巴音贺希格; 齐向东; 李英海; 于宏柱; 李文昊
	2008-02-27
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2008-02-27
专利类型	发明专利
摘要	一种平面全息光栅制作中精确控制光栅刻线密度的方法，属于光谱技术领域中涉及的一种方法。要解决的技术问题：提供一种平面全息光栅制作中精确控制光栅刻线密度的方法。解决的技术方案：第一，配备一套全息光栅曝光装置，第二，在该装置光路中置入标准机刻光栅和半反射镜，再从准直反射镜光路中分出光路，使其产生干涉条纹，第三，在光路中取出标……
资助项目	100371834
申请号	200310115844.2
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11303
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	巴音贺希格,齐向东,李英海,等. 一种平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法 (发明)[P]. 2008-02-27.

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CN200400154499400000（484KB）			开放获取	--	浏览 下载

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