凹面光栅制作光路中测量波源点与毛坯中心点距离的方法 (发明)

	凹面光栅制作光路中测量波源点与毛坯中心点距离的方法 (发明)
	李文昊; 齐向东; 巴音贺希格; 李英海
	2009-04-22
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2009-04-22
专利类型	发明专利
摘要	凹面光栅制作光路中测量波源点与毛坯中心点距离的方法，属于光谱技术领域中涉及的一种测量波源点与光栅毛坯中心点距离的方法。要解决的技术问题是：提供一种凹面全息光栅制作光路中测量波源点与凹面全息光栅毛坯中心点距离的方法。技术方案为：第一步，建立一套凹面全息光栅曝光装置。第二步，制备一套测量凹面全息光栅制作光路中波源点与毛坯中……
资助项目	100480622
申请号	200610016901.5
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11069
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	李文昊,齐向东,巴音贺希格,等. 凹面光栅制作光路中测量波源点与毛坯中心点距离的方法 (发明)[P]. 2009-04-22.