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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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Effect of Cs adsorption on the photoemission performance of GaAlAs photocathode 期刊论文
Applied Optics, 2014, 卷号: 53, 期号: 32, 页码: 7709-7715
作者:  Chen X. L.;  Jin M. C.;  Zeng Y. G.;  Hao G. H.;  Zhang Y. J.;  Chang B. K.;  Shi F.;  Cheng H. C.
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